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MFB AT Series 晶圆表面缺陷检测系统
产品特点
案例场景
产品规格
WAFER SURFACE INSPECTION SYSTEM
MFB AT Series
晶圆表面缺陷检测系统
面向晶圆及相关基板的表面质量检测需求,围绕颗粒、划痕、表面污染与图形异常,结合样品特征和工艺场景配置检测方案。
系列概述
AT Series 系统
AT Series 以晶圆表面质量检测为应用方向,将样品搬送、图像采集、缺陷分析与结果管理作为整体进行选型,适应不同材料、片型及表面图形的检测需求。
围绕颗粒、划痕和图形异常,结合全面扫描与局部复查的使用场景,讨论检测配方、异常区域定位及结果统计方式,为质量分析提供图像和数据依据。
从研发样品到制程检验,系统配置与样品条件共同评估。上下片方式、样品标识、运行管理和数据接口按实际流程确认,便于与既有工作方式衔接。
AT Series 系统
从整体表面,到局部细节
以表面图像、异常标记与局部对照,让检测需求的讨论更直观。


缺陷局部图像对照
观察局部区域在不同图像中的形态,为位置核对与复查分析提供参考。
功能与优势
| 配置方向 | 应用价值 |
|---|---|
| 晶圆与基板适配按材料、片型及图形化表面讨论载台和检测配置。 | 适应不同样品的使用需求,为产品与工艺切换提供选型依据。 |
| 自动上下片与寻边围绕片盒、搬送、寻边及上下片流程确定组合。 | 衔接自动化作业流程,减少重复操作与样品搬运环节。 |
| 全面扫描与局部复查结合整体表面观察、异常位置和局部细节配置检测方式。 | 将整体信息与重点区域关联,便于进一步复查和分析。 |
| 样品标识与任务管理读码、检测任务及配方管理在选型时确认。 | 关联样品身份、任务及检测结果,方便记录管理与追溯。 |
| 缺陷识别、分析与统计围绕异常类别、形态、数量与分布配置分析功能。 | 整理图像中的异常信息,为质量评价提供可复查的结果。 |
| 图像与位置数据按后续复查及结果比对需求确定图像、坐标和数据格式。 | 支持跨环节的信息衔接,便于局部核对与进一步分析。 |
| 设备管理与状态监控运行状态、系统管理及紧急状态处理需求整体确认。 | 便于设备运行管理及异常处理,衔接现场操作要求。 |
| 报告与数据接口按客户接口规范讨论数据导出、报告及 MES 对接。 | 连接检测结果与生产管理流程,减少重复整理数据的工作。 |
应用
- 硅片与图形化晶圆颗粒、划痕、表面污染及图形异常的检测需求。
- 透明与非透明基板按材料和表面特征选择成像与分析配置。
- 玻璃与光学相关基板围绕表面残留、污染及局部异常开展样品评估。
- 研发与制程检验来料评价、工序质量观察与结果统计分析。
- 适用于IC、存储、先进封装等先进制程。
规格与配置
纳米到微米级分辨灵敏度
全景扫描最快2分钟
晶圆尺寸兼容4寸、6寸、8寸、12寸标准晶圆及非标准片
上下片方式按片盒、节拍与操作流程选择。
结果管理任务、图像、缺陷统计及报告格式按需求确认。
数据和报告可配合上传客户指定MES系统
从你的样品开始,讨论检测方案
准备样品材料与片型、典型缺陷图像、节拍和数据需求,便于技术沟通与验证安排。
详情请参阅产品目录




