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高级方块电阻测试仪
产品特点
案例场景
产品规格
系统优势
·密闭系统有助于测量光灵敏或环境敏感样品
·可容纳最大直径为300毫米的样品
·可配置四探针(4PP)或非接触式涡流(EC)模式
·15毫米的最大样品高度
·方块电阻测量范围覆盖十个量级
·可以使用矩形、线性、极坐标和自定义配置等采样点排列方式进行测绘
·第高精度X-Y样品台
·业内较小的涡流测量尺寸
·易于使用的软件界面
·兼容所有KLA方块电阻探针
R54四探针和涡流测量方法
四探针(4PP)和涡流(EC)是测量方块电阻的两种常用技术。R54在接触式四探针方法上覆盖了10个电阻量级范围,并配置了高分辨率和高灵敏度的非接触式涡流方法,延续了KLA的创新历史和优势地位。
四探针概述
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四探针提供了一种简单而直接的电阻测量方法。在所测导电层与衬底之间有一个非导电阻挡层时,由四个导电引脚组成的探针在受控的力的作用下接触导电层表面。标准引脚配置在两个外侧引脚上施加电流,并测量两个内侧引脚上的电压。为测量方块电阻,导电层厚度应小于探针引脚间距的1/2。KLA开创了R54双配置技术,可交替测量不同引脚上的电压,对边缘效应应用动态校正并纠正引脚间距误差。KLA为导电薄膜或离子注入层提供多种的探针配置,以优化表面材料特性的测量。 |
涡流概述
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涡流是一种非接触式的导电薄膜的方块电阻测量技术。在线圈中施加变化的电流以产生变化的磁场。当线圈靠近导电表面时,变化的磁场会在导电表面中感应变化的(涡流)电流。这些涡流反过来产生自己的变化的磁场,该磁场与探针线圈藕合,产生与样品的方块电阻成正比的信号变化。KLA独特的涡流解决方案使用单侧(上部)探针,在每个测量点动态调整探针到样品的高度,这对于测量的准确度和再现性至关重要。涡流方法不受表面氧化的影响,同时也是不太适合四探针接触式方法的较软样品的理想选择。 |
四探针与涡流方法之间的关系
KLA四探针和涡流解决方案在各自的常用范围内都表现出良好的相关性。Filmetrics R54使用KLA先进的校准方法,
来确保四探针和涡流技术的测量精度。
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市场分类和应用
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